1 本文介紹年發(fā)展的輝光放電質(zhì)譜計(jì)的原理、結(jié)構(gòu)、特性及其應(yīng)用。

2 為研究輝光放電釬焊對(duì)材料的適應(yīng)性，對(duì)幾種常用的黑色金屬和有色金屬進(jìn)行了輝光釬焊。

3 本文討論磁場(chǎng)中中等低氣壓弧光放電與輝光放電的正柱理論。

4 依據(jù)微空心陰極自持的輝光放電結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)了一款新穎的微小放電結(jié)構(gòu)。

5 研究了在熱陰極輝光放電等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜過程中，熱陰極輝光放電特性與金剛石膜沉積工藝的關(guān)系。

6 本文研究了45鋼輝光放電膏劑滲硼工藝。

7 大電流熱陰極輝光放電用于等離子體化學(xué)氣相沉積金剛石膜，有效地提高了沉積速率和膜品質(zhì)。

8 本文介紹了本實(shí)驗(yàn)室研制的瞬短脈沖輝光放電飛行時(shí)間質(zhì)譜儀。

9 這些不同的輝光放電的鞘是低得多。

10 微空心陰極放電是一種新穎的、非衡、高氣壓輝光放電。

11 在此基礎(chǔ)上，根據(jù)大氣壓下有利于均勻輝光放電的放電條件，最終推算出有利于均勻輝光放電的最小電源頻率。

12 通過X射線衍射、輝光放電光譜、掃描電鏡等分析手段，對(duì)鋅鎳合金鍍層的成分變化規(guī)律、微觀形貌和結(jié)構(gòu)以及腐蝕產(chǎn)物進(jìn)行研究。

13 本文敘述了輝光放電等離子體源的等離子體源離子注入。

14 大氣壓輝光放電等離子體技術(shù)應(yīng)用前景非常廣泛。

15 試驗(yàn)獲得的激勵(lì)電壓、頻率對(duì)誘導(dǎo)氣流速度影響的定量關(guān)系有助于進(jìn)一步揭示輝光放電等離子體EHD的機(jī)理，也為等離子體在流動(dòng)控制方面的應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。高考升學(xué)網(wǎng)整理

16 該激光器的脈沖放電行為由旋轉(zhuǎn)火花開關(guān)和高壓脈沖觸發(fā)器進(jìn)行控制，并通過自動(dòng)翻轉(zhuǎn)電路實(shí)現(xiàn)對(duì)稱張氏電極之間的均勻輝光放電。

17 文中論述了等離子體表面改性的作用機(jī)理、優(yōu)點(diǎn)，介紹了產(chǎn)生大氣壓直流輝光放電和交流輝光放電的方法。

18 本文在離子氮化裝置及離子氮化工藝試驗(yàn)研究的基礎(chǔ)上，根據(jù)氣體放電理論，提出并討論了雙層輝光放電現(xiàn)象。

19 鋼表面納米、亞微米尺度薄膜。元素深度分布的定量測(cè)定。輝光放電原子發(fā)射光譜法。